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2026年4月23日(木)開催 オンラインセミナー

最新マシンビジョン技術で工程効率化!
半導体検査・計測の活用事例セミナー

最新マシンビジョン技術で工程効率化!半導体検査・計測の活用事例セミナー

申込受付中

半導体製造は、製品の処理性能向上、省電力化、コスト削減を目的に回路の微細化、基板の大型化、積層化、チップレットなどの新たな技術開発が進んでいます。

それに伴い、微細な欠陥の観察方法や、高速・高解像度化へ対応した検査手法、精度を高めた検査環境の構築が必要とされています。

今回のセミナーは、半導体の微細化・大型化に対応する検査技術や、三次元計測や波長を活用した可視化の事例をご紹介します。

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イベント詳細

開催日時 2026年4月23日(木) 14:00 ~ 15:00(終了予定)
セミナー内容
  1. 会社紹介
  2. 半導体製造の変化と検査・計測の課題
  3. 微細化・大型化に対応する最新撮像技術
    • マシンビジョンに特化した微分干渉ユニット/瞳分割偏光ユニット
    • 大型パッケージ基板に対応するラインスキャン撮像技術
    • 装置の省スペース化に貢献するCIS+同軸照明ユニット
    • フラットドーム照明の最新活用事例
  4. 3次元測定による新たな可視化
    • 二光束干渉ユニット
    • ライトフィールドカメラ
  5. 波長を活用した検査ソリューション
    • SWIR(短波赤外)の最新撮像技術
    • ハイパースペクトルイメージングを活用した膜厚測定
  6. サービス・サポート紹介
参加方法 セミナー参加を申込む
定員 / 参加費
500名様(先着順)/ 参加費無料
  • 1メールアドレスにつき1名のご参加となります。
  • Gmail、Yahoo!メール、Hotmailなどのフリーメールアドレスでのお申込みはご遠慮ください。
  • 同業他社様のお申込みはご遠慮ください。
注意事項
お問合せ先 シーシーエス株式会社 イベント事務局
TEL:075-415-8277
Email:sales@ccs-inc.co.jp

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