トピックス

2010.12.06

2010年度 「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術(応用編)」セミナー開催(2010年12月16日~12月17日)

2010年 第2回「マシンビジョン画像処理システムのための新しいライティング技術(応用編)」開催
(高度ポリテクセンターコース番号:22260-3)

2010年12月16日(木)~12月17日(金)の両日にわたり、千葉県の高度ポリテクセンターにおいて、当社主幹技師 増村茂樹による本年度第2回目のライティングセミナーを開催いたします。
本セミナーでは、画像処理システムの設計、または生産技術・検査技術に携わる方を対象として、LED照明を用いてのライティング技術の詳細な解説をさせていただきます。

「応用編」は本年度からの開設となります。
前回は応募多数のため、早々に締め切らせていただきました。
ご参加をご希望のかたは定員に限りがありますのでお早めにお申し込みください。


■セミナー詳細

詳細
開催予定日
開催場所
セミナー内容
申込方法
:2010年12月16日(木)~12月17日(金)
:10:00~16:45
:高度ポリテクセンター
:詳しい内容は こちら から
:詳しいお申し込み方法は こちら から
■セミナー内容(予定)
項目細目時間
1.新しいライティング技術の概要(1)光ディテクターとしての照明理解
(2)光の変化を抽出する方法論
(3)マシンビジョンシステムと照明の位置づけ
1時間
2.照明系の設計関連事項(1)ビジョンシステム構成要素とその関係、マシンビジョンライティングの機能
(2)情報抽出としての照明機能
2時間
3.スペクトル分布の変化と画像の濃淡
1)スペクトル分布の相対変化とS/N分布、最適化
(2)可視光の色と可視光外の色
(3)紫外光と赤外光での撮像例
1時間
4.照明系と観察光学系の関係(1)濃淡像の形成と明るさの単位
(2)光の伝搬方向の変化抽出
(3)照射光と観察光の関係
(4)照明法と光の変化
(5)照射立体角と観察光学系
2時間
5.明・暗視野と照明設計(1)設計の原点としての明・暗視野
(2)明・暗視野と観察光の関係
(3)直接光と観察光学系
(4)散乱光と観察光学系
(5)分散直接光と観察光学系
1時間
6.分散直接光の考え方と最適化設計(1)分散直接光と結像光学系・照射立体角・有効照射立体角
(2)分散直接光の濃淡情報
2時間
7.結像系による濃淡変換(1)物体面の輝度変化と観察立体角、明・暗視野の濃淡変化と照射立体角、照明系と観察系の統合設計1時間
8.マシンビジョン用途向けレンズ選定の勘所(1)レンズ設定と画像の濃淡プロファイル
(2)結像光学系の集光特性
(3)観察光学系の最適化の原点
1時間
9.最近の動向(1)最新の照明デバイスと最適化
(2)照明系の設計標準について
(3)照明の規格化の動向と展望
1時間
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